科技前線中國EUV光刻技術進展:技術障礙與政策影響解析分析指出中國在開發國產 EUV 光刻技術面臨三大技術障礙,但其在超級電腦領域的進展顯示出強大的技術韌性,這對全球晶片政策帶來深遠挑戰。Jason·2026年7月2日·2 分鐘閱讀
科技前線白宮轉向:Anthropic AI 模型出口管制正式解除川普政府解除對Anthropic模型Claude Fable 5與Mythos 5的出口管制,標誌著美國AI產業政策的重大轉向,旨在促進國際競爭力。Jason·2026年7月1日·3 分鐘閱讀